隨著3C產品之輕、薄、短小化及納米材料應用,如何將超微細研磨技術應用于納米材料的制作及分散研磨,已成為現下重要的課題。
一般制造納米級粉體有2個方法。一個為化學方法即由下而上的制造方法,如化學沉淀法。另外一種方法為物理法即將粉體粒子由大變小,如機械球磨法。
到目前為止,用化學方法制造納米級粉體,此種方法在學術界相對來說技術已經比較成熟。其缺點是,制造成本高且不易放大,同時所得到粒徑分布亦較大。所以到目前為止,企業界仍然是以物理機械研磨的方法得到納米級粉體。用物理方法制備納米級粉體的優點有:一、物理方法制備出的納米級粉體粒徑分布相對化學方法的要窄。同時生產成本相對較低,參數較易控制。實驗放大到量產更容易實現。
關于物理法得到納米級粉體又可分干式研磨和濕式研磨。二這兩種方法如果可有讓廠家自己選擇的話,當然是想要以干式研磨方法最終得到納米級粉體。但是以干式研磨時,研磨過程中粉體溫度因大量能量導入而急速上升,會產生各種問題,如爆炸,發生化學反應等。所以一般而言,干式研磨粒徑只能研磨到微米級,想要得到納米級粉體就需要使用濕法研磨。
所謂濕法研磨即先將粉料與適當容積混合,調制成適當材料。為了避免研磨過程中發生粉體凝聚現象,所以需要加入適當的分散劑或者助劑助磨。所以能否研磨出納米級粉體,跟分散劑、助劑配方以及砂磨機都是有關系的。